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计算光刻概要及其重要问题

创建于2023年03月08日 星期三作者 : 李萍 浏览量 :

主讲人：尉海清，加州Quantica Computing公司，武汉宇微光学公司

时  间：2023年3月9日 10:00

地  点：物电学院A栋316

联系人：刘全慧



讲座摘要：报告将概要介绍计算光刻技术，以光刻掩膜光学临近矫正(OPC)为例，阐述其在半导体制造产业中的支柱性作用。强调计算光刻需要极速处理海量数据的技术挑战，指出基于第一原理、严格求解的物理模型并不适用，而是需要新颖巧妙的近似求解方法而达标极高的速度要求，同时又符合精度标准且不失物理本质。报告也将例举计算光刻中的一些重要问题，包括三维掩膜电磁散射(Mask3D)、大NA光学矢量成像、适用于离轴照明和Mask3D的Hopkins成像理论、光刻胶光化学的非线性响应等等。其中每个问题的求解都依赖和凝聚了数学、物理、化学、数值计算、软件工程诸多领域的研究成果和智慧结晶。



主讲人简介：尉海清，北京大学学士，加拿大麦吉尔大学硕士、博士，美国加州Quantica Computing公司首席科学家，武汉宇微光学公司联合创始人、首席技术官。作为一名工业物理学家，在光纤通信、光学成像、图像处理、建模和仿真等多方面做出突出贡献，是计算光刻领域世界顶级专家。作为基础科学研究者，热衷于探索数学、物理中的理论问题和求解方法，在Nature、Phys. Rev. Lett.、Opt. Lett.等权威刊物上多有著述。


  • 中国 · 湖南省 · 长沙市 · 岳麓区湖南大学南校区 , 410082

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计算光刻概要及其重要问题

2023-03-08

作者：尉海清

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主讲人：尉海清，加州Quantica Computing公司，武汉宇微光学公司

时  间：2023年3月9日 10:00

地  点：物电学院A栋316

联系人：刘全慧



讲座摘要：报告将概要介绍计算光刻技术，以光刻掩膜光学临近矫正(OPC)为例，阐述其在半导体制造产业中的支柱性作用。强调计算光刻需要极速处理海量数据的技术挑战，指出基于第一原理、严格求解的物理模型并不适用，而是需要新颖巧妙的近似求解方法而达标极高的速度要求，同时又符合精度标准且不失物理本质。报告也将例举计算光刻中的一些重要问题，包括三维掩膜电磁散射(Mask3D)、大NA光学矢量成像、适用于离轴照明和Mask3D的Hopkins成像理论、光刻胶光化学的非线性响应等等。其中每个问题的求解都依赖和凝聚了数学、物理、化学、数值计算、软件工程诸多领域的研究成果和智慧结晶。



主讲人简介：尉海清，北京大学学士，加拿大麦吉尔大学硕士、博士，美国加州Quantica Computing公司首席科学家，武汉宇微光学公司联合创始人、首席技术官。作为一名工业物理学家，在光纤通信、光学成像、图像处理、建模和仿真等多方面做出突出贡献，是计算光刻领域世界顶级专家。作为基础科学研究者，热衷于探索数学、物理中的理论问题和求解方法，在Nature、Phys. Rev. Lett.、Opt. Lett.等权威刊物上多有著述。


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